硅单质及其化合物应用范围很广．三氯硅烷（SiHCl3）还原法是目前工业制高纯度硅的主要方法，生产过程如下

Question

硅单质及其化合物应用范围很广．三氯硅烷（SiHCl3）还原法是目前工业制高纯度硅的主要方法，生产过程如下图：根据题意完成下列备题：（1）硅在元素周期表的位置______，其最外层有______种能量不同的电子．（2）硅的气态氢化物为SiH4，其空间构型为______；三氯硅烷中某些元素最高价氧化物对应水化物的酸性______＞______（填化学式）．（3）写出三氯硅烷与氢气反应的化学反应方程式：______．（4）自然界中硅酸盐种类多，结构复杂，通常用二氧化硅和金属氧化物的形式来表示其组成．如正长石（KALSi3O8），氧化物形式为：______．

Answer 1

（1）硅原子结构示意图为，硅在元素周期表的位置为第三周期，第ⅣA族，最外层4个电子分布在3S、3P轨道上，能量不同；
故答案为：第三周期，第ⅣA族；2；
（4）硅的气态氢化物为SiH₄，据价层电子对互斥理论得n=4，SP³杂化，分子构型为正四面体，
（3）三氯硅烷与氢气反应生成硅和氯化氢，方程式为：SiHCl₃+H₂

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Si+3HCl；Si的非金属性小于Cl，所以最高价氧化物对应水化物的酸性HClO₄＞H₂SiO₃；
故答案为：SiHCl₃+H₂

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Si+3HCl；HClO₄；H₂SiO₃；
（4）正长石改写成氧化物的形式为：K₂O?AL₂O₃?6SiO₂，
故答案为：K₂O?AL₂O₃?6SiO₂；