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射频溅射最简单三个步骤
产品
溅镀
工艺流程?
答:
1. **清洁和预处理**:首先,需要对待镀膜的基材进行清洁和预处理,以去除表面的污染物和氧化层
。这通常通过超声清洗、酸洗、等离子体清洗等方法进行。2. **真空抽气**:然后,将基材放入溅射设备的真空室中,并抽取空气,以达到所需的真空度。这可以通过机械泵和分子泵等设备进行。3. **气体充入...
射频溅射
的介绍
答:
射频溅射: 用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统, 由于常用的交流电源的频率在射频段( 5~30MHz ) 所以这种溅射方法称为射频溅射。
射频溅射射频溅射
几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜,获得 的薄膜致密、纯度高、与基片附着牢固、建设速率大、 工艺重复性好。常用来沉积各种合金膜、...
溅射
分哪几种?
答:
1、直流溅射:对于导电性不是很好的金属靶
,很难建立较高的自偏压,正离子无法获得足够的能量去轰击靶材 2、射频的设备贵,直流的便宜。
什么是
射频
磁控
溅射
法
答:
1 直流和
射频
是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率(13.56MHz)间隔加在靶上的。详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里 2 这个说法不对。直流磁控溅射只能用导电的靶材(靶材表面在空气中或者
溅射过程
中不会...
直流磁控
溅射
和
射频
磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
实际溅射工艺的溅射时间至少需要100秒,
因此必须使电源极性倒转率f≥107次/秒
。该频率的极性转换可利用射频发生器完成,溅射法使用的高频电源的频率已属于射频的范围,其频率区间一般为5 ~ 30MHz。国际上通常采用的射频频率多为美国联邦通讯委员会(FCC)建议的13.56 MHz。射频溅射法由于可以将能量直接...
直流磁控
溅射
和
射频
磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象。 而
射频溅射
是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料。沉积的膜层致密,附着力良好。 如果寻找本质区别是:直流溅射是气体放电的前期,而射频是后期,我们最常见的射频是电焊机。
溅射过程
所用设备的区别就是电源的区别。
直流(DC)磁控
溅射
、中频(MF)磁控溅射、
射频
(RF)磁控溅射分别有什么特点...
答:
缺点:难以在大块扁平材料中均匀溅射,而且放电
过程
难以控制,进而工艺重复性差.2.中频(MF)磁控溅射 中评交流磁控溅射可用在单个阴极靶系统中,工业上一般使用孪生靶溅射系统;靶材利用率最高可达70%以上,靶材有更长的使用寿命,更快的溅射速率,杜绝靶材中毒现象.
3
.射频(RF)磁控溅射
射频溅射
特点 - 射频方法...
磁控
溅射
原理
答:
磁控
溅射
原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
真空镀膜常用方法有真空蒸发和离子
溅射
,分别作用是?
答:
因此大都采用离子作为轰击粒子.
溅射过程
建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电.不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同.直流二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;
射频溅射
是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电....
关于磁控
溅射
的几个问题,谢谢大家了
答:
4.在金属靶材
溅射过程
中,如果想达到氧化亚锌的理想值,比较难,需要精确控制溅射产额和氧气流量。一般溅射物质为氩气(价格便宜,溅射产额较高)。主要为控制过程,国内的质量流量计一般都比较粗,建议用压电陶瓷阀,德国的sus04。另一个方案是
射频溅射
氧化亚锌陶瓷靶材,这个容易控制溅射后沉积膜层的两...
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