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直流磁控溅射电源
什么是
直流磁控溅射
,有什么区别呢?
答:
直流磁控溅射
(DC Magnetron Sputtering)和射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)都是物理气相沉积(PVD)技术的一种,用于在基材上沉积薄膜。它们的主要区别在于所使用的电源类型和适用的目标材料。电源类型:直流磁控溅射使用
直流电源
,而射频磁控溅射使用射频电源。目标材料:直流磁控溅射主要用于导电目标材料...
磁控溅射
是
直流
还是射频?
答:
磁控溅射可以是直流也可以是射频。
直流磁控溅射
一般用于导电型(如金属)靶材的溅射,射频一般用于非导电型(如陶瓷)靶材的溅射。直流磁控溅射利用的是直流辉光放电,初始电子加速碰撞Ar形成氩离子和另一个电子 (α过程),而氩离子在电场作用下加速碰撞阴极 (靶材)也会形成二次电子发射 (γ过程),当放电...
请教
直流磁控溅射电源
问题
答:
这是正常的,一般
直流溅射电源
在功率调节旋流最小的情况下,一打开电源就会有一个电压值,随后此值会有所减小
直流磁控溅射
,电压没问题,电流机会为零,是什么原因
答:
答:1、整流桥如果是模块结构的,问题主要在交流输入测,可能
电源
零线虚接或悬浮等,测电压=220V,正常,一带负载,电压就非常低,所以这样的电源经过整流桥,就一定会出现有电压,无电流的情况。一般来说(模块式)整流桥是不会有问题的;2、二极管的整流桥,不但要检查低压而且还应该认真检查管子极性...
在真空镀膜(
磁控溅射
)中,脉冲偏压电源为什么比
直流电源
好?
答:
使用
直流电源
,电子方向始终统一,会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和。也就是说用来提供动力的正负极被中和了。然后
磁控溅射
将不再继续。所以采用脉冲电源。真空镀膜简介真空镀膜一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片,如航海望...
直流磁控溅射
和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下
答:
1 直流和射频是对加在靶上的
电源
所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率(13.56MHz)间隔加在靶上的。详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里 2 这个说法不对。
直流磁控溅射
只能用导电的靶材(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会...
直流磁控溅射
功率如何计算?电压电流直接相乘,还是跟面积神马的有关?高...
答:
电压电流直接相乘。另外,一般
直流磁控溅射
的
电源
散热量比较大,真正的使用效率只有40%,算是比较好的。国内最好的还是要属珠海的。用电总功率是指的接入电源之前的电压乘电流,外接功率表就好。实际功率为靶材的电压乘电流。并非显示数据。需要实际测量。
直流磁控溅射
和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
磁控溅射
是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法。它是在二极
直流溅射
的基础上,在靶表面附近增加一个磁场。电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了电离产额,从而放电区的电离度提高,即离子和电子的密度增加。放电区的有效电阻变小,电压下降。另外放电区集中在靶表面,放电...
直流
(DC)
磁控溅射
、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射分别有什么特点...
答:
辉光放电
直流溅射
系统 特点:提供一个额外的电子源,而不是从靶阴极获得电子.实现低压溅射(压强小于0.1帕).缺点:难以在大块扁平材料中均匀溅射,而且放电过程难以控制,进而工艺重复性差.2.中频(MF)
磁控溅射
中评交流磁控溅射可用在单个阴极靶系统中,工业上一般使用孪生靶溅射系统;靶材利用率最高可达70%以上...
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
答:
1.
直流磁控溅射
:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作原理是,利用
直流电源
对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:射频磁控溅射是利用高频交流电源产生电场,...
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