33问答网
所有问题
当前搜索:
直流磁控溅射镀膜原理
溅镀的
原理
答:
沉积在塑胶基材上.原理以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面,使其溅射出进入气相,可用来刻蚀和镀膜
。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快,以Cu,Au,Ag等最高,Ti,Mo,Ta,W等最低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glow discharge...
磁控溅射镀膜
问题
答:
原理上讲,
两点:气场和磁场 磁控溅射在0.4Pa的气压情况下离子撞击靶材,溅射出粒子沉积到基材上
,整体靶材的电压几乎一致,不影响溅射速率。0.4Pa的气场情况是溅射速率最高的情况,气场变化,压强变大和变小都会影响溅射速率。磁场大,束缚的自由电子增多,溅射速率增大,磁场小,束缚的自由电子就少,溅...
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作
原理
是什么?
答:
1. 直流磁控溅射:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作原理是,
利用直流电源对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导
,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:射频磁控溅射是利用高频交流电源产生电场,...
磁控溅射原理
答:
磁控溅射原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面
,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
磁控溅射
膜 是什么意思 另外 是不是 金属膜都是采用磁控溅射技术的
答:
提高溅镀速率。一般金属
镀膜
大都采用
直流
溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的
原理
是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般来说,利用溅镀...
磁控溅射原理
答:
磁控溅射原理
如下:磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是:在高真空的条件下,入射离子(Ar+)在电场的作用下轰击靶材,使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面,沉积在...
磁控溅射原理
答:
磁控溅射
的基本
原理
是利用 Ar一O2混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。1、磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多...
磁控溅射镀膜
设备简介与优点有哪些?
答:
控溅射原理
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,而二次电子在加速飞翔基材时,在磁场的洛仑兹力影响之下,呈现螺旋线状与摆线的复合...
磁控溅射
膜是什么意思?金属膜都是采用磁控溅射技术吗?
答:
3、简单的说,
磁控溅射
隔热的生产工艺就是在真空的环境里采用电离子有序轰击镍、银、钛、金、铟、铜、铝等贵金属耙材,并采用磁场控制的方式让金属离子均匀的溅射到光学级的PET基材上,沉积成金属
镀膜
层。4、隔热
原理
:磁控溅射隔热膜属于反射型隔热膜。它是将镍、银等金属的分子通过溅射的方法涂布在...
什么叫
磁控溅射
工艺
答:
磁控溅射
工艺是一种表面处理技术,通过先将目标材料置于真空室内,然后使用高能离子轰击目标材料,使其表面部分被剥离出来,并在真空中形成薄膜沉积在基材上。这个过程中,磁场被用来控制离子轰击目标材料的方向和速度,以获得所需的薄膜沉积效果。磁控溅射工艺通常应用于表面涂层、光学膜、金属薄膜等领域。
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
涓嬩竴椤
灏鹃〉
其他人还搜
磁控溅射镀膜原理
磁控溅射镀膜技术原理
真空磁控溅射镀膜原理
真空磁控溅射镀膜原理与技术
中频磁控溅射镀膜原理
直流磁控溅射镀膜特点
真空磁控溅射镀膜原理图片
磁控溅射镀膜工艺流程
那个磁控溅射镀膜