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磁控溅射射频电源和直流电源
直流磁控溅射与射频磁控溅射
区别是什么?
答:
顾名思义,直流磁控溅射运用的是
直流电源
,
射频磁控溅射
运用的是交流电源(射频属于交流范畴,频率是13.56MHz。我们平常的生活中用电频率为50Hz)。两种方式的用途不太一样,直流磁控溅射一般用于导电型(如金属)靶材的溅射,射频一般用于非导电型(如陶瓷化合物)靶材的溅射。两种方式的不同应用
直流磁
...
磁控溅射
是
直流
还是
射频
?
答:
磁控溅射可以是直流也可以是
射频
。
直流磁控溅射
一般用于导电型(如金属)靶材的溅射,射频一般用于非导电型(如陶瓷)靶材的溅射。直流磁控溅射利用的是直流辉光放电,初始电子加速碰撞Ar形成氩离子和另一个电子 (α过程),而氩离子在电场作用下加速碰撞阴极 (靶材)也会形成二次电子发射 (γ过程),当放电...
直流磁控溅射和射频磁控溅射
有什么不同?
答:
电源类型:直流
磁控溅射
使用
直流电源
,而射频磁控溅射使用
射频电源
。目标材料:直流磁控溅射主要用于导电目标材料,如金属。而射频磁控溅射可以用于非导电目标材料,如氧化物和氮化物。成膜质量:射频磁控溅射通常可以得到更好的膜质,因为它使用的射频电源可以更好地控制离子能量。复杂性和成本:射频磁控溅射的...
直流磁控溅射和射频磁控溅射
的区别是什么啊?最好详细解释一下
答:
1
直流和射频
是对加在靶上的
电源
所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率(13.56MHz)间隔加在靶上的。详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里 2 这个说法不对。
直流磁控溅射
只能用导电的靶材(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会...
直流磁控溅射和射频磁控溅射
的区别到底是什么啊
答:
磁控溅射
是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法。它是在二极
直流溅射
的基础上,在靶表面附近增加一个磁场。电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了电离产额,从而放电区的电离度提高,即离子和电子的密度增加。放电区的有效电阻变小,电压下降。另外放电区集中在靶表面,放电...
射频磁控溅射与直流磁控溅射
在相同功率下溅射同样的靶材,溅射产额大概...
答:
大楷2-3倍。
直流
(
DC
)
磁控溅射
、中频(MF)磁控溅射、
射频
(RF)磁控溅射分别有什么特点...
答:
辉光放电
直流溅射
系统 特点:提供一个额外的电子源,而不是从靶阴极获得电子.实现低压溅射(压强小于0.1帕).缺点:难以在大块扁平材料中均匀溅射,而且放电过程难以控制,进而工艺重复性差.2.中频(MF)
磁控溅射
中评交流磁控溅射可用在单个阴极靶系统中,工业上一般使用孪生靶溅射系统;靶材利用率最高可达70%以上...
直流磁控溅射和射频磁控溅射
的区别到底是什么啊
答:
提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象。 而
射频溅射
是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料。沉积的膜层致密,附着力良好。 如果寻找本质区别是:
直流溅射
是气体放电的前期,而射频是后期,我们最常见的射频是电焊机。溅射过程所用设备的区别就是
电源
的区别。
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
答:
1. 直流磁控溅射:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作原理是,利用
直流电源
对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2.
射频磁控溅射
:射频磁控溅射是利用高频交流电源产生电场,...
求助 磁控溅射法有哪些种类?反应磁控溅射法是不是分为
直流磁控溅射
法和...
答:
另外放电区集中在靶表面,放电区中的离子密度高,所以入射到靶表面的离子密度大大提高,因而溅射产额大大增加。磁场如果能够自闭和称为平衡
磁控溅射
,不能自闭和称为非平衡磁控溅射。
溅射电源
通常有下列几种,
直流电源
,
射频电源
,直流脉冲
电源和
中频电源。溅射电源频率区间为5 ~ 30MHz的称为
射频溅射
。
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