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磁控溅射Al靶用什么电源
在真空镀膜(
磁控溅射
)中,脉冲偏压
电源
为
什么
比直流电源好?
视频时间 13:35
直流
磁控溅射
和射频磁控溅射的区别是
什么
答:
电源类型:直流磁控溅射使用直流电源,而射频磁控溅射使用射频电源
。目标材料:直流磁控溅射主要用于导电目标材料,如金属。而射频磁控溅射可以用于非导电目标材料,如氧化物和氮化物。成膜质量:射频磁控溅射通常可以得到更好的膜质,因为它使用的射频电源可以更好地控制离子能量。复杂性和成本:射频磁控溅射的...
磁控溅射
原理
答:
磁控溅射
原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正离...
磁控溅射
对陶瓷
靶
为
什么
不能起辉
答:
溅射陶瓷靶一般需要用射频电源
。射频电源频率通常能够在10MHz以上,常用13.56MHz射频电源。原因是:溅射开始,带正电的氩离子在电场下飞向靶,但这种溅射只能持续10-7秒,靶表面将形成一层正电荷,溅射停止。如果倒转电源极性,即靶上加正电位,等离子体中电子将飞向靶面中和靶面的氩离子,这个过程时间为...
直流
磁控溅射
和射频磁控溅射的区别是
什么
啊?最好详细解释一下
答:
直流磁控溅射只能用导电的靶材(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材),并不局限于金属。譬如,对于铝靶,它的表面极易形成不导电的氧化膜层,造成靶表面电荷积累(靶中毒),严重时直流溅射无法进行。这时候,
就需要射频电源
,简单的说,用射频电源的时候,有一小部分时间是在冲抵靶上...
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作原理是
什么
?
答:
3. 激光磁控溅射:激光磁控溅射利用激光束对靶材进行局部强烈加热,使得靶材表面产生瞬间超热等离子体,从而产生原子或分子的溅射。这种技术适用于制备高温材料、高熔点材料等难以制备的材料薄膜。4. 高功率脉冲磁控溅射:高功率脉冲磁控溅射是利用高功率
脉冲电源
对靶材表面进行快速加热,在极短时间内产生等离子...
求助
磁控溅射
法有哪些种类?反应磁控溅射法是不是分为直流磁控溅射法和...
答:
另外放电区集中在靶表面,放电区中的离子密度高,所以入射到靶表面的离子密度大大提高,因而溅射产额大大增加。磁场如果能够自闭和称为平衡磁控溅射,不能自闭和称为非平衡磁控溅射。溅射电源通常有下列几种,
直流电源
,
射频电源
,直流
脉冲电源
和中频电源。溅射电源频率区间为5 ~ 30MHz的称为射频溅射。
磁控溅射
靶材中毒是
什么
原因,有何现像?如何避免?
答:
若要彻底杜绝靶中毒,
必须用中频电源或射频电源代替直流电源
;减少反应气体的通入量、提高溅射功率,清理靶材上的污染物(特别是油污)、选用真空性能好的防尘灭弧罩等方法均可有效防止靶中毒现象的发生。靶材内冷却水浸泡的磁铁,有污渍,只要磁场强度足够,冷却效果良好,对靶材影响不大。
磁控溅射
镀膜靶材怎么接线的
答:
1. 靶材安装:首先将靶材安装到
磁控溅射
设备上的
靶
架或支撑结构上。这个结构通常由导电材料(例如不锈钢)制成,以确保良好的电气连接。2. 接线方法:将一个接地的导线连接到系统合适位置的接地端以保持靶材与系统接地。然后将正负极连接到设备的
电源
上。通常情况下,靶材为负极,而气氛中的氩离子为正极...
真空电镀--
磁控溅射
镀膜技术
答:
TCO(透明导电氧化物)玻璃,如SnO2:F(氟掺杂氧化锡)、ZnO:
Al
(铝掺杂氧化锌)和In2O3:Sn(氧化铟锡)等材料,是现代科技中不可或缺的成分,其薄膜的制备工艺至关重要,包括优化气压、温度、功率和沉积速度等参数。总结来说,
磁控溅射
镀膜技术以其精密的控制和广泛的应用,为各种材料表面的改性提供...
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