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直流磁控溅射电源价格
什么是
直流磁控溅射
,有什么区别呢?
答:
直流磁控溅射
(DC Magnetron Sputtering)和射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)都是物理气相沉积(PVD)技术的一种,用于在基材上沉积薄膜。它们的主要区别在于所使用的电源类型和适用的目标材料。电源类型:直流磁控溅射使用
直流电源
,而射频磁控溅射使用射频电源。目标材料:直流磁控溅射主要用于导电目标材料...
磁控溅射
是
直流
还是射频?
答:
磁控溅射可以是直流也可以是射频。
直流磁控溅射
一般用于导电型(如金属)靶材的溅射,射频一般用于非导电型(如陶瓷)靶材的溅射。直流磁控溅射利用的是直流辉光放电,初始电子加速碰撞Ar形成氩离子和另一个电子 (α过程),而氩离子在电场作用下加速碰撞阴极 (靶材)也会形成二次电子发射 (γ过程),当放电...
关于
磁控溅射
的几个问题,谢谢大家了
答:
1.膜层厚度测量问题:如果是纯净的氧化锌,或者说是透明的,就可以用光学方法测量膜层厚度,如果是非透明的,就用台阶仪,这量类的测量厚度的光学仪器不少,我不再细说。需要注意的是选择适当的测量范围的仪器。2.一般
磁控溅射
可以分为直流(二级)溅射、中频、射频。
直流溅射电源
便宜,沉积膜层致密度...
直流
(DC)
磁控溅射
、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射分别有什么特点...
答:
辉光放电
直流溅射
系统 特点:提供一个额外的电子源,而不是从靶阴极获得电子.实现低压溅射(压强小于0.1帕).缺点:难以在大块扁平材料中均匀溅射,而且放电过程难以控制,进而工艺重复性差.2.中频(MF)
磁控溅射
中评交流磁控溅射可用在单个阴极靶系统中,工业上一般使用孪生靶溅射系统;靶材利用率最高可达70%以上...
射频磁控溅射与
直流磁控溅射
在相同功率下溅射同样的靶材,溅射产额大概...
答:
大楷2-3倍。
在真空镀膜(
磁控溅射
)中,脉冲偏压电源为什么比
直流电源
好?
答:
使用
直流电源
,电子方向始终统一,会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和。也就是说用来提供动力的正负极被中和了。然后
磁控溅射
将不再继续。所以采用脉冲电源。真空镀膜简介真空镀膜一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片,如航海望...
直流磁控溅射
和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
磁控溅射
方法典型的工作条件为:溅射气压0.5Pa,靶电压600V,靶电流密度20mA/cm2,薄膜沉积速率2mm/min。
直流溅射
需要靶材具有良好的导电性,对于非金属靶材,需要极高的电压,不容易实现,因此射频溅射方法出现:将一负电位加在置于绝缘板背面的导体上,在辉光放电的等离子体中,当正离子向导体板加速飞行...
稳压
电源价格
及品牌
答:
稳压
电源价格
稳压电源(stabilized voltage supply)是能为负载提供稳定的交流电或
直流
电的电子装置,包括交流稳压电源和直流稳压电源两大类。汉晟普源高精度稳压电源可编程:¥398 三相交流稳压电源,SVC-15K:¥1800 智能型无触点稳压电源HZW-10:¥6500 Idealtek/艾德泰克T:¥5000 新品首发振凯 SVC-B50...
磁控溅射
原理
答:
磁控溅射
原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
直流磁控溅射
,电压没问题,电流机会为零,是什么原因
答:
答:1、整流桥如果是模块结构的,问题主要在交流输入测,可能
电源
零线虚接或悬浮等,测电压=220V,正常,一带负载,电压就非常低,所以这样的电源经过整流桥,就一定会出现有电压,无电流的情况。一般来说(模块式)整流桥是不会有问题的;2、二极管的整流桥,不但要检查低压而且还应该认真检查管子极性...
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