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磁控溅射直流电源
磁控溅射
是
直流
还是射频?
答:
磁控溅射可以是直流也可以是射频。
直流磁控溅射
一般用于导电型(如金属)靶材的溅射,射频一般用于非导电型(如陶瓷)靶材的溅射。直流磁控溅射利用的是直流辉光放电,初始电子加速碰撞Ar形成氩离子和另一个电子 (α过程),而氩离子在电场作用下加速碰撞阴极 (靶材)也会形成二次电子发射 (γ过程),当放电...
直流磁控溅射
和射频磁控溅射的区别是什么
答:
直流
磁控溅射
(DC Magnetron Sputtering)和射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)都是物理气相沉积(PVD)技术的一种,用于在基材上沉积薄膜。它们的主要区别在于所使用的电源类型和适用的目标材料。电源类型:直流磁控溅射使用
直流电源
,而射频磁控溅射使用射频电源。目标材料:直流磁控溅射主要用于导电目标材料...
在真空镀膜(
磁控溅射
)中,脉冲偏压电源为什么比
直流电源
好?
答:
使用
直流电源
,电子方向始终统一,会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和。也就是说用来提供动力的正负极被中和了。然后
磁控溅射
将不再继续。所以采用脉冲电源。真空镀膜简介真空镀膜一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片,如航海望...
直流磁控溅射
,电压没问题,电流机会为零,是什么原因
答:
答:1、整流桥如果是模块结构的,问题主要在交流输入测,可能
电源
零线虚接或悬浮等,测电压=220V,正常,一带负载,电压就非常低,所以这样的电源经过整流桥,就一定会出现有电压,无电流的情况。一般来说(模块式)整流桥是不会有问题的;2、二极管的整流桥,不但要检查低压而且还应该认真检查管子极性...
磁控溅射
原理
答:
磁控溅射
原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
真空电镀--
磁控溅射
镀膜技术
答:
磁控溅射
镀膜技术,一门精密的表面处理工艺,通过精确操控真空环境与粒子运动,为我们揭示了一种独特的材料沉积过程。首先,让我们深入探讨其核心原理:创造真空环境:在经过精心调节的真空chamber(腔体),压力通常控制在2到5×10-5托(2到5帕),氩气(Ar)如箭般注入,开启
直流电源
,电离过程由此展开。
直流磁控溅射
和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
磁控溅射
是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法。它是在二极
直流溅射
的基础上,在靶表面附近增加一个磁场。电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了电离产额,从而放电区的电离度提高,即离子和电子的密度增加。放电区的有效电阻变小,电压下降。另外放电区集中在靶表面,放电...
直流
(
DC
)
磁控溅射
、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射分别有什么特点...
答:
辉光放电
直流溅射
系统 特点:提供一个额外的电子源,而不是从靶阴极获得电子.实现低压溅射(压强小于0.1帕).缺点:难以在大块扁平材料中均匀溅射,而且放电过程难以控制,进而工艺重复性差.2.中频(MF)
磁控溅射
中评交流磁控溅射可用在单个阴极靶系统中,工业上一般使用孪生靶溅射系统;靶材利用率最高可达70%以上...
请教
直流磁控溅射电源
问题
答:
这是正常的,一般
直流溅射电源
在功率调节旋流最小的情况下,一打开电源就会有一个电压值,随后此值会有所减小
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
答:
磁控溅射
可以分为以下几种类型:1. 直流磁控溅射:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作原理是,利用
直流电源
对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:射频磁控...
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