直流磁控溅射 射频磁控溅射 不同的原因

Question

如题所述

Answer 1

其它都一样，就是所用电源不一样。直流运用直流电源，射频运用交流电源（射频属于交流范畴，频率是13.56mhz。我们平常的生活用电频率为50hz）。还有就是用途不太一样，直流磁控溅射一般用于导电型（如金属）靶材的溅射，射频一般用于非导电型（如陶瓷）靶材的溅射。

Answer 2

直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料，因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，两极间的离子加速与电离的机会将变小，甚至不能电离，导致不能连续放电甚至放电停止，溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材，须用射频溅射法（RF）。